삼성전자, 2021년 시설투자 48조2000억원…반도체 43조6000억원

디스플레이 2조6000억원

삼성전자가 지난해 시설투자에 48조2000억원을 집행했다.

삼성전자는 27일 지난해 48조2000억원을 시설투자에 집행했다고 밝혔다.

사업별로는 반도체 43조6000억원, 디스플레이 2조6000억원 수준이다. 메모리반도체는 극자외선(EUV) 기반 15나노 D램, V6 낸드 등 첨단공정 수요 대응을 위해 평택, 시안공장을 증설하고 공정을 전환했다. 평택 P3 라인 인프라 투자도 진행됐다. 디스플레이는 중소형 모듈과 QD 디스플레이에 중점을 두고 투자했다.

삼성전자는 “EUV를 포함한 차세대 기술 적용을 선제적으로 확대하면서 메모리 투자가 전년 대비 증가했다”며 “파운드리는 평택 EUV 5나노 첨단공정 증설 등을 중심으로 투자가 진행됐다”고 설명했다.